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求:50道有机化学命名题答案

第二章烷烃写出庚烷的所有的构造异构体的结构式,并用系统命名法命名。写出下列化合物的结构式,并指出化合物分子中碳原子和氢原子的类型。用系统命名法命名下列各化合物。

《有机化学》(第五版,李景宁主编)习题答案 第五章 写出顺-1-甲基-4-异丙基环己烷的稳定构象式。稳定构象 写出下列的构造式(用键线式表示)。

-三甲基己烷。(2)(E)-3,5-二甲基-3-庚烯 (3)1-甲基-4-异丙基苯,也叫对甲基异丙苯 (4)(S)-2-羟基丙酸,也叫L-(+)-2-羟基丙酸(有立体构型)(5)溴化苄,也叫苄基溴。望采纳。

图中各化合物的命名是:3-乙基-3甲基庚烷。乙基环丙烷。4a-甲基-2-异丙基-十氢萘。5-(2-甲基丙基)螺[2,4]庚烷。

熔融法制备高岭土-有机插层复合物

1、在两步插层法制备高岭土-有机插层复合物中,熔融法尽管插层不很均匀,对控温设备要求较高,但插层速度快,环境污染小,易于实现工业化生产。本节主要介绍了熔融法制备高岭土-苯甲酰胺插层复合物和高岭土-1,4-丁二醇插层复合物,并对其插层复合物进行了表征。

2、高岭土-二甲基亚砜插层复合物(Kao-DMSO)的热稳定性好常用来作为制备其他材料的前驱体[4~11],而且还用于高岭土的改性[12]、剥片[13]及制备纳米金属/高岭土复合物[14]等。因此,有关Kao-DMSO的制备及反应机理得到了较多的研究[15~17]。

3、不同时间熔融法制备高岭土-聚乙二醇(Kao-PEG)的XRD图谱及插层率见图4-28。可见熔融法的插层速率较快,反应12h插层率即趋向一稳定值80%左右;反应24h插层率达最大值;继续延长插层时间,插层率不是增高,反而有微弱程度的降低。

4、高岭石聚合物插层有机复合物的制备有2种方法:单体插层原位聚合和聚合物插层。无论是单体插层或是聚合物插层,目前都不能直接与高岭石作用插入其层间域,均需要以小分子的预插层体为前驱物。

大一的有机化学,命名和写结构式!!跪求答案!!

给我邮箱。我给你发图片 我学过大学的有机化学,这里有很多有机化学方程式。

知0.1有机物中氢原子的物质的量为0.6mol 通过碱石灰时减少的质量是二氧化碳的质量 物质的量为0.1mol 知0.1有机物中碳原子的物质的量为0.1mol 然后就凌乱了 因为根据你提供的数据写不出化学式。

、单质B只能是铁,不然第3个条件中不会有残留,那么MgO的摩尔质量是40,Fe3O4的摩尔质量是,232。

化学反应

1、MgCl2 + 2NaOH = Mg(OH)2↓ + 2NaCl 1镁跟盐酸反应 Mg + 2HCl = MgCl2 + H2↑ 1镁跟硫酸反应 Mg + H2SO4 = MgSO4 + H2↑ 1铁跟盐酸反应 2Fe + 6HCl = 2FeCl3 + 3H2↑ 16。

2、化学反应有酸碱反应、氧化还原反应、水解反应、复分解反应。酸碱反应 酸碱反应是指酸和碱之间的反应,通常会生成盐和水。这种反应的特点是反应物中存在氢离子和氢氧根离子。酸碱反应的本质是酸和碱之间的电子转移,这种转移会导致溶液的pH值发生变化。

3、一) 硅与氟气反应:Si + 2F2 = SiF4。 硅与氢氟酸反应:Si+4HF = SiF4+2H2。 硅与氢氧化钠溶液:Si + 2NaOH + H2O = Na2SiO3 +2H2。 二氧化硅与氢氟酸反应:SiO2 + 4HF = SiF4 + 2H2O。 二氧化硅与氢氧化钠溶液反应:SiO2 + 2NaOH = Na2SiO3 + H2O。

4、常见的化学反应:光合作用 植物通过光合作用把二氧化碳和水转化成食物(葡萄糖)和氧气。通过这个反应,植物为自己和动物生产食物,而且将二氧化碳转化为氧气,供人类呼吸。

5、化学反应是指有新物质生成的变化,也叫化学变化。从微观上来看,化学变化就是分子分成原子,原子重新组合生成新物质的过程。在化学反应中常伴有发光、变色、产生气体、生成沉淀等现象,化学反应中,还伴随有能量的变化。判断一个反应是否为化学反应的依据是:是否生成新的物质。

6、分解反应,由一种物质生成两种或两种以上其它的物质的反应叫分解反应 简称一分为二 表示为AB=A+B 只有化合物才能发生分解反应。

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