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七甲基二硅氮烷与六甲基二硅氮烷的区别
根据查询相关资料显示，七甲基二硅氮烷与六甲基二硅氮烷的区别在于反应物不同。六甲基二硅氮烷，无色透明液体。
六甲基二硅氮烷1，无色透明液体。易水解，放出NH3，生成六甲基二硅醚。在催化剂存在下，与醇或酚反应，生成三甲基烷氧基硅烷或三甲基芳氧基硅烷。与无水氯化氢反应，放出NH3或NH4Cl，生成三甲基氯硅烷。
六甲基二硅氮烷是一类危险品，六甲基二硅氮烷是易燃液体，遇明火、高温、氧化剂易燃。遇水分解有毒硅化物气体。燃烧产生有毒氮氧化物烟雾。
【用途五】107-46-0（六甲基二硅氧烷）用作硅油、硅橡胶、药品、气相色谱固定液体 、分析试剂、憎水剂等 【用途六】用作硅油生产中的封头剂，也可用作硅氮烷原料。
七甲基二硅氮烷是机硅烷化合物。：（CH3）3SiN（CH3）Si（CH3）3 烷，即饱和烃。只含碳氢，单键，是只有碳碳单键和碳氢键的链烃。正儿八经的硅烷都不是有机物。有机硅烷的定义和命名就不要套用碳烷烃的了。
hmds是什么?
六甲基二硅胺（HMDS），味道似胺，不过不能判定你所提到的怪味是否由该物质产生，该物质危害如下：最重要危害与效应：急性：眼睛接触：会刺激与灼伤眼睛造成眼睛过敏、红肿、刺痛或角膜受损。
F-35的头盔显示系统（HMDS），可向飞行员显示受控于头部符号信息，也就是说飞行员的视线决定了显示内容。
hmds的一种是LiHMDS，是碱性。lihmds是碱性试剂，双胺基锂（简称LiHMDS）是一种有机硅化合物，化学式为[（CH3）3Si]2NLi。
六甲基二硅氮烷如何在反应中除去
1、hmds是六甲基二硅氮烷。其无色透明液体。易水解，放出NH3，生成六甲基二硅醚。在催化剂存在下，与醇或酚反应，生成三甲基烷氧基硅烷或三甲基芳氧基硅烷。与无水氯化氢反应，放出NH3或NH4Cl，生成三甲基氯硅烷。
2、甲基二硅氮烷与水或醇反应被称为HMDS，实际上就是水解反应。主要用在集成电路的制造中，增加硅片和光刻胶之间的附着力。
3、六甲基二硅氮烷，无色透明液体。易水解，放出NH？，生成六甲基二硅醚，在催化剂存在下，与醇或酚反应，生成三甲基烷氧基硅烷或三甲基芳氧基硅烷，与无水氯化氢反应，放出NH？或NH？Cl，生成三甲基氯硅烷。
4、六甲基二硅氮烷与酸酐反应生成三甲基硅基酸酯。六甲基二硅氮烷或酸酐反应而将聚合物的oh端基封端的方法，以改进可固化混合物的储存稳定性。
5、根据查询相关公开信息显示，六甲基二硅氮烷（Sila-diisothiourea）能与酯发生反应，在催化剂的作用下，将酯通过位置交换反应转变为三硅氮烷类化合物。改变成分比例也会使得结果不同，比如得到芳烃、醇、或其它硅氮烷化合物。
6、可用于硅藻土、白炭黑、钛等粉末的表面处理。可用于硅藻土、白炭黑、钛等粉末的表面处理，其作用机理是以硅氮键与硅羟基缩合。在半导体工业中用作光致刻蚀剂的粘结助剂。
六甲基二硅氮烷处理过的材料如何疏油
六甲基二硅氮烷喷涂石材有疏水效果。六甲基二硅氮烷喷涂在石材上新形成的终端使表面在特性上更具疏水性，并导致石材具有更大的润湿性。
主要用在集成电路的制造中，增加硅片和光刻胶之间的附着力。和硅表面的二氧化硅反应，除去二氧化硅和水反应的羟基，使其变为疏水性，而光刻胶是疏水的，从而增加了附着力。
③有机前躯体法。由聚硼氮烷熔融纺丝制成纤维后，进行交联，生产不熔化的纤维，再经裂解制成纤维。
采用溶胶-凝胶工艺，以正硅酸乙酯（TEOS）为前驱体，结合三甲基氯硅烷（TMCS）对胶粒的修饰作用，利用浸渍提拉法在玻璃表面可制备具有一定疏水能力的SiO2薄膜。
橡胶中加入主要是起补强作用或者提高触变性的，因比表面积大，多孔，因表面含有羟基，容易产生氢键，因而具有吸附性，解决方法可以用疏水性白炭黑，对白炭黑进行疏水处理，添加硅油或者六甲基二硅氮烷处理即可。
用作气相法白炭黑表面疏水处理剂及有机合成反应中提供N原子的试剂，还可用作碳化硅纤维的助剂，提高碳化硅纤维的耐热性和强度，还可用作涂料的防沉淀剂。并用于制备有机硅化合物。
