三甲基铝基本概述
1、三甲基铝，其英文名是Trimethylaluminium，又被称为ALUMINUM TRIMETHANIDE、ALUMINUM TRIMETHYL、TMA等。这是一种常见的化学化合物，其分子式为C3H9Al，分子量为708克/摩尔。它的CAS号是75-24-1，而在EINECS系统中的编号为200-853-0。
2、基本信息：三甲基铝，化学式为[（CH3）3Al]2，是一种无色液体，熔点为15℃，沸点126℃，闪点低至-18℃，密度为0.752g/cm3。2主要用途：作为催化剂参与石油烃聚合反应，应用于火箭燃料、化学气相沉积、外延生长和有机合成等领域。
3、三甲基铝，如清澈的液体般流淌，无色的外表下隐藏着独特的魅力。它的熔点仅15℃，仿佛在低温中保持着液态的灵动；而沸点则高达125℃，彰显其不凡的稳定性。令人惊奇的是，它的密度达到了惊人的752 kg/m3，仿佛每一滴都蕴含着强大的能量。
4、TMA，全称为三甲基铝，是一种具有特定性质的气体。其存储量为2公斤，表现出较强的化学活性。TMA能够溶于乙醚和饱和烃类等有机溶剂，在苯中形成二聚体，甚至在气相中也可能存在这种结构。值得注意的是，TMA在空气中会燃烧，与水接触时会发生剧烈的爆炸反应，生成氢氧化铝和甲烷。
tma是什么气体
三甲胺（trimethylamine， TMA），作为一种简单的叔胺，常温下呈无色气体，带有显著的鱼腥味。它易溶于水、乙醇和乙醚，具有易燃性和毒性，其相对密度为0.66（-5℃）和09（空气=1）。分子式为C3H9N，TMA在分析试剂和有机合成领域中有所应用。
三甲胺（trimethylamine TMA）：是最简单的叔胺，常温下为无色气体，有鱼腥恶臭，溶于水，乙醇，乙醚，易燃，有毒，相对密度（水=1）0.66（-5℃）、（空气=1）09。分子式为C3H9N，可用作分析试剂，在有机合成中也有用途。
TMA，全称为三甲基铝，是一种具有特定性质的气体。其存储量为2公斤，表现出较强的化学活性。TMA能够溶于乙醚和饱和烃类等有机溶剂，在苯中形成二聚体，甚至在气相中也可能存在这种结构。值得注意的是，TMA在空气中会燃烧，与水接触时会发生剧烈的爆炸反应，生成氢氧化铝和甲烷。
三甲胺（Trimethylamine，简写TMA），分子式N（CH3）3，属有机化合物，也是最简单的叔胺类化合物。三甲胺为无色气体，比空气重、吸湿、有毒且易燃。低浓度的三甲胺气体具有强烈的鱼腥气味，高浓度时具有类似于氨的气味。三甲胺通常压缩于钢瓶中或配成40%的水溶液来销售。
三甲基铝有哪些安全防护方法呢?
操作人员需穿戴氯乙烯或氯丁橡胶防护服、皮或尼龙手套，配备高腰胶靴，戴护目镜，以及防酸性气体的防毒口罩，确保全身防护。工作环境需保持通风，空气清新干燥，储存三甲基铝的钢瓶应使用N2或Ar等惰性气体封存，液面含水和含氧量需控制在20PPm以下。
在处理三甲基铝时，首要的安全措施是确保远离任何可能的火源（S16）。这包括避免在明火或高温区域操作，以防止引发火灾或爆炸事故。为了保护您的身体免受伤害，务必遵守S24/25的规定，即避免与三甲基铝直接接触皮肤和眼睛。
工作时必须穿戴氯乙烯或氯丁橡胶防护服，皮或者尼龙的手套，高腰胶靴，护目镜，防毒（酸性气体用）口罩等。工作场所要通风，保持环境空气新鲜干燥。用钢瓶盛装，液面要用NAr等惰性气体保护。在保护气中的含水及含氧量均应小于20PPm。
确保安全：当三甲基铝发生泄漏时，首要任务是确保人员的安全。迅速将人员转移到安全区域，远离泄漏源。空气通风：打开门窗，增加室内空气流通，有助于稀释和排除TMA蒸气。使用个人防护装备：穿戴适当的个人防护装备，如化学防护服、安全眼镜、防护手套和呼吸器。
工作场所要通风，保持环境空气新鲜干燥。用钢瓶盛装，液面要用NAr等惰性气体保护。在保护气中的含水及含氧量均应小于20PPm。钢瓶要存放在室外阴凉干燥之处，或易燃液体专用库内，要远离火种、热源、可燃物及能与三甲基铝反应的物质。电气设备必须有防火花装置。库温要低于30℃，相对湿度在75%以下。
在意外暴露于氧化铝烟雾的情况下，应立即转移至无污染区域，确保患者得到适当的休息，保持温暖和舒适，并尽快寻求医疗救治。对于眼睛和皮肤的接触，应立即用大量清水冲洗，然后就医。如果误入口内，应立即漱口并紧急送医。铝的有机化合物，其毒性源于其分解产物。
半导体[薄膜工艺]-ALD-原子层沉积;
1、每次沉积循环包括一个反应步骤，一个清洁步骤，接着是第二个气体反应，再次清洗。这样逐层叠加，经过多个周期，薄膜的厚度得以控制，且无杂质，性能优异。因此，原子层沉积对于制造高精度、均匀的薄膜，特别是在半导体薄膜工艺中，扮演着至关重要的角色。
2、原子层沉积 （ALD） 是一种精确且可控的薄膜制造工艺，广泛应用于先进芯片制造中，与之相匹配的蚀刻工艺 - 原子层蚀刻 （ALE） - 一同实现了新材料和三维设计的使用。ALD 的重要性在于其原子尺度上的精确控制能力，使其成为化学气相沉积 （CVD） 技术中不可或缺的一部分。
3、原子层沉积（ALD）是一种高精度薄膜沉积技术，以单原子膜形式在衬底表面层层沉积材料。使用两种或更多种包含不同元素的前体化学品，交替沉积以形成单层材料。ALD生长原理与化学气象沉积（CVD）类似，但反应前驱体交替沉积，每次反应只沉积一层原子，具有自限制生长特点，确保薄膜共形且无针孔。
4、揭开原子层沉积（ALD）的神秘面纱：精密薄膜制造的艺术 在半导体制造的舞台上，ALD（原子层沉积）技术无疑是璀璨的明星。作为全球领先的设备供应商ASM的标志性工艺，ALD正以其独特的魅力推动着半导体设备市场蓬勃发展。
三甲基铝的理化性质
基本信息：三甲基铝，化学式为[（CH3）3Al]2，是一种无色液体，熔点为15℃，沸点126℃，闪点低至-18℃，密度为0.752g/cm3。2主要用途：作为催化剂参与石油烃聚合反应，应用于火箭燃料、化学气相沉积、外延生长和有机合成等领域。
三甲基铝在常温常压下为无色透明液体。反应性极强。空气中自燃，瞬间就能着火。与具有活性氢的酒精类、酸类激烈反应。与水反应激烈，即使在冷水中也能产生爆炸性分解反应，并生成甲烷，有时还能发火。在300℃时缓慢分解产生甲烷。与AsHPH醚类、叔胺及其它路易士碱形成稳定的络合物。
TMA，全称为三甲基铝，是一种具有特定性质的气体。其存储量为2公斤，表现出较强的化学活性。TMA能够溶于乙醚和饱和烃类等有机溶剂，在苯中形成二聚体，甚至在气相中也可能存在这种结构。值得注意的是，TMA在空气中会燃烧，与水接触时会发生剧烈的爆炸反应，生成氢氧化铝和甲烷。