1、维氏硬度:25 GpaW2B5靶材具有较高的熔点和硬度,同时电阻率范围较广,使得它在高温、高真空等环境下具有优异的稳定性和耐磨性,适用于制备高性能的涂层和薄膜材料,特别是在硬质合金和切削工具领域有重要应用。综上所述,硼化物靶材具有多种优异的物理和化学性质,在各个领域都有广泛的应用前景。
2、纯度标准:根据应用领域不同,氧化硼靶材有不同的纯度等级要求,如半导体行业通常要求纯度达到999%甚至更高。密度标准:对于氧化硼靶材的密度也有一定标准范围,以确保其在镀膜过程中的性能稳定性,一般结晶态氧化硼靶材密度在46g/ml左右。
3、硼化物溅射靶材:如Cr5BHfBMo2BNbB等。硬质合金溅射靶材:如SiC、WC、AlCu、NiCr、CoFe等。氮化物溅射靶材:如AlN、GaN、HfN、NbN、Si3NTICN、TaN、TiN、ZrN等。
