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三甲基氯硅烷和氨气反应的温度
室温反应。氨基酸和氯硅烷反应是以脂肪族、芳香族、杂环类氨基酸为起始原料经三甲基氯硅烷、甲醇体系的室温反应。结晶纯化，得到高收率高纯度的氨基酸甲酯盐酸盐。
这个反应一般在酸性条件下，用HMDS（六甲基二硅胺）与对氨基苯酚在乙腈中室温下反应，可以实现选择性保护酚羟基。
熔点 -57℃沸点 57℃相对密度0.8580折射率 3885闪点 -28℃溶解性 溶于苯、乙醚和全氯乙烯。遇水即水解，释出游离盐酸。
CH3SiCl3一甲基三氯硅烷+H20 == CH3siCl2（OH）+HCL，三氯硅烷和氢氧化钠反应化学方程式为：SiHCl3+3NaOH+H2O→Si（OH）4+3NaCl+H2（气体）三氯硅烷是一种无机物，化学式为HCl3Si。
三甲基氯硅烷与水反应生成六甲基二硅氧 烷，这是一种易燃液体。 氯硅烷是非导体，因此，在加工、处理或分发过程中会积累静电电荷。
三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法.生产流程示意...
1、化学方程式为：SiHCl3 + H2 → Si + 3HCl。（4）在该生产流程中，从粗硅到三氯甲硅烷的转化过程和从三氯甲硅烷到高纯硅的转化过程是互为逆过程的。因此，在这两个过程中，氢气和氯化氢可以循环使用。
2、三氯硅烷（SiHCl3）与氢气（H2）在1357K的高温条件下反应，生成高纯度的硅（Si）和氯化氢（HCl）。反应的化学方程式可以表示为：SiHCl3 + H2 → Si + 3HCl。
3、（1分） 还原剂（1分）（2）蒸馏，（2分） （2分）（3）HCl和 （2分）（4）①浓硫酸，（1分）使进入烧瓶的液态 变为气体。
4、目前我国制备高纯硅多晶硅主要采用三氯氢硅氢还原法、硅烷热解法和四氯化硅氢还原法。一般说来，由于三氯氢硅还原法具有一定优点，目前比较广泛的被应用。
5、三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法。SiHCl3+H2=（一定条件）=Si+3HCl。
三氯甲硅烷制纯硅
化学方程式为：SiHCl3 + H2 → Si + 3HCl。（4）在该生产流程中，从粗硅到三氯甲硅烷的转化过程和从三氯甲硅烷到高纯硅的转化过程是互为逆过程的。因此，在这两个过程中，氢气和氯化氢可以循环使用。
SiHCl3 + 3H2O =H2SiO3 + 3HCl + H2↑。反应非常剧烈。
该反应是一可逆反应。反应达到一定平衡后就会达到动态平衡。制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法，即通过上面化学得到单质硅是当前制备高纯硅的主要方法。
在工业上，已形成规模生产能力，一般采用氯甲烷和硅粉在催化剂作用下直接合成，经分馏得到纯品，沸点56℃，为无色液体，有刺激臭味，在空气中暴露，易和潮气反应产生氯化氢。
三氯甲硅烷简介：又名硅氯仿，在环境条件下无色液体，用于生产有机硅化合物、多晶硅等。溶于二硫化碳，四氯化碳、氯仿、苯等。由硅粉与氯化氢反应而得，遇水分解，易燃，在空气中能自燃。有刺激性臭味，有毒。